ULVAC 金屬膜用EB槍 EGN-406M
特點
采用了平頂結構,減少了電子束蒸發(fā)源上的成膜區(qū)域,使清潔變得容易
采用新的發(fā)射結構可將部件數(shù)量減少到傳統(tǒng)產(chǎn)品的60%,從而簡化了裝配
適用于金屬成膜,氧化物/化合物點光束。
作為設備制造商經(jīng)驗積累的成果
用途
電子束蒸發(fā)的蒸發(fā)源
規(guī)格
| 型號 | EGN-206M | EGN-406M |
| 偏轉(zhuǎn)角 | 270° | 270° |
| 坩堝數(shù)量 | 6 | 6 |
| 坩堝容量 | 20cc | 40cc |
| 冷卻水流量 | 10L/min | 10L/min |
| 尺寸 W×D×H | 267mm×343mm×150mm | 267mm×343mm×150mm |
| 重量 | 28kg | 28kg |
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