ULVAC 紅外鍍金聚焦爐 E25N
特點 具有拋物反射表面的平行紅外光，可以均勻地加熱大面積區(qū)域 用途 Si、化合物半導體的RTA 玻璃?陶瓷基板的退火爐 金屬環(huán)境退火爐 復合材料的耐熱評估爐 高溫張力?雅俗試驗用加熱爐 規(guī)格
＊1 型號含義
用于 E410N E : 反射面類型 E：橢圓形反射，P：拋物面反射 4 : 燈管編號 10 : 燈管長度 N：加熱方式，燈管類型 L：線性聚焦光 , C：圓柱形加熱 , N：N 型燈 , P：P 型燈 ＊2 *高加熱溫度隨被加熱樣品的紅外線反射率、吸收率、熱容量和材料而變化。 ? 請注意加熱爐需要冷卻水。 加熱溫度隨被加熱樣品的紅外線反射率、吸收率、熱容量和材料而變化。 其他規(guī)格要求，請隨時與我們聯系。
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